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Y11T225 硅光技术在CPO中的应用

更新时间:2025-08-13 08:08:24 阅读量:15

这几天写了几个CPO光接口案例,在公众号下出现了个大家感兴趣议题,硅光技术在CPO中的应用。

今天略展开聊一下。

CPO,是指共封装光学,是指把OE电光转换功能与集成电路封装在一起。

集成电路特指系统ASIC定制化的一个大规模集成电路芯片,可以是电交换芯片,也可以是算力芯片。重点是“电”路集成芯片。

OE,O是光,E是电,用于电信号与光信号的相互转换,OE是指功能,可以把这个功能封装成咱们熟悉的OSFP光模块,QSFP-DD的光模块,也可以直接和那颗大的ASIC电芯片封装在一起。

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如果把OE与ASIC封装在一起,那就是CPO。 CPO是系统级的称呼,其中的OE功能模块,有些厂家叫做CPO光模块,也有厂家叫做CPO光引擎。

嗯,“CPO”与“CPO光模块”,是不同的啊。约等于“湖北省”和“湖北省武汉市”的关系。


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现在提到CPO光模块,大家想到的就是硅光方案。其实产业里,硅光用于CPO封装仅仅是方案之一。

CPO光模块按模式来分,主要有两大类,一大类是多模CPO光模块,另一大类是单模CPO光模块。



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多模CPO光模块出现的时间非常早,2010年IBM与Finisar就开始研究基于多模VCSEL方案的共封装光学,只是当时还没有CPO这个名字而已。

CPO成为一个产业共识的名字,大约在2019年成立CPO产业联盟的时候才定下来。

IBM的这个多模CPO是通过VCSEL与PD来实现的光电转换,我在OFC2020、OFC的2023写过进展。



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单模CPO光模块,则有GaAs材料的单模VCSEL,也有单模DFB方案,还有咱们今天的重点硅光方案。

单模的DFB用来做CPO光模块,在OFC2023写过的。单模VCSEL的CPO在这几年一直跟踪更新。



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硅光集成方案的话,今年写的非常非常多。主要集中在工艺封装路线,包括电芯片光芯片的3D封装,以及光纤的耦合方案。这些是硅光CPO光模块产业化之路目前比较关心的议题。



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以上是背景介绍,接下来聊一下为什么CPO光模块里,大家更关注硅光技术。



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硅光技术的集成度最高

这几个方案,DFB的集成度最低,VCSEL的集成度居中,硅光技术的集成度最高。

单模VCSEL与多模VCSEL都可以集成的。



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VCSEL可以集成,但只适合发射端的阵列集成在一个芯片上,那另外的接收端PD阵列也得集成在另一个芯片上。因为发射端与接收端的工艺不一样。

基于VCSEL方案的话,如果需要合分波应用,那么还需要合分波的MUX、DeMUX芯片。

对于硅光技术而言,经过这些年的发展,具备了集成发射端+接收端+MUX+DeMUX+分路器+偏振分离+偏振旋转+...等诸多功能。



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2025年,大家提到CPO,基本上就是集成VCSEL阵列,或硅光集成技术者两大类。很少提到DFB,更几乎不提用EML做CPO了。

不提,不等于没有。

很早写过Rockley基于EML方案的CPO,Juniper基于EML的CPO,基本上不符合产业发展需求,且他们的EML是打算集成在硅光芯片里边去的,也可以认为这是硅光集成技术的一个分支,不具备产业竞争力。

DFB做CPO,集成度非常低,这个呢,Finisar在OFC2021、OFC2022有发布样机。

3.2T的CPO,用了32个100Gbps的DFB激光器,以及硅基氧化硅波导PLC布局的合分波芯片。



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把上图局部放大来看,激光器分成四组,每组有8个。且每个激光器都是独立的,没有使用类似VCSEL的那种阵列方式。

原因就是高速DFB需要兼顾横模,纵模,调制动态性能....,很难批量控制,需要一颗颗挑选出合格品。



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Finisar用在单模CPO的高速DFB,是他家基于啁啾控制技术的双段波导结构的DFB-R激光器芯片。

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硅光芯片与电芯片共封装,材料一致,热应力最小

VCSEL采用GaAs材料,集成芯片与电芯片如TIA、CDR、Driver、ASIC等各类芯片做3D封装时,需要考虑GaAs与Si硅的热膨胀系数差异而引起的热应力。



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硅光与集成电流的硅电芯片,本质上既能共用大多数的半导体前道与后道工艺,且因为二者的材料一致,热应力相对而言是最小的。



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当然,硅光的封装比三五族的硅光与电芯片的3D封装的热应力小一些,这是宏观而言。

仅仅针对硅光自己,硅光与硅基电路,除了硅材料外,也会有其他材料,比如射频树脂,铜布线,过孔等微观结构,这些也是需要考虑其热应力的哈。

硅晶圆最大,潜在成本更低

硅晶圆目前最大是12吋,300mm直径,而GaAs晶圆则是4寸、6寸以及极少厂家探索8吋工艺,6吋晶圆就是150mm直径。二者相比,硅晶圆更大,有利于降低单位成本。

当然,CPO是一个新的封装概念,无论是硅光技术还是GaAs技术,其实目前都还没有大规模商用,其成本都挺高的,所以大家才提出一个“潜在成本”的判断趋势。

硅的集成芯片可靠性比化合物光学芯片更高。

硅的可靠性比GaAs 激光器的可靠性要高出1~2个数量级。元素是硅是单元素材料,而GaAs是化合物材料,在材料结晶、外延、以及应用过程中,都有可能破坏其分子结构,发生化学反应导致失效。

硅光技术是当前CPO可选技术传输距离最长的。

多模VCSEL制作的CPO,传输距离在几十米到一百米的大致范围。

单模VCSEL制作的CPO可传输500m到2公里的范围,但是单模VCSEL的技术不成熟,并不能成为商用的成熟技术选项,这就是产业既跟踪单模VCSEL的技术发展,又不选择这种方案立即商用的原因。

单模硅光技术的CPO也是传输

500m到2公里的范围,目前的硅光集成产业状态,形成了硅光芯片流片、设计、应用的完整产业链,也大规模用于可插拔光模块,在此基础上可以进一步优化使其可实现CPO封装,实现CPO的商用。

硅光技术是CPO可选技术中带宽最大的。

硅光技术不是光通信带宽最大的,但是CPO可选方案中带宽最大的。

薄膜铌酸锂调制器带宽很大,可以实现110+GHz带宽,但产业不成熟,且芯片很大,目前而言暂无法用于即将到来的CPO应用。

磷化铟集成芯片的调制器带宽也大,大约在90+GHz,但芯片尺寸也大,需要金盒气密封装,且是化合物材料,良率受限,目前也不选择用于CPO封装。

硅光集成芯片的带宽不如InP集成,薄膜铌酸锂集成,但其尺寸小集成度高,带宽呢,也马马虎虎实现70GHz,可以用在200G PAM4信号的调制。

而多模VCSEL尺寸很小,带宽仅25-35GHz范围。

单模VCSEL的带宽,在实验室测到45GHz,处于原型机时代。

硅光技术对于CPO有限的选择范围,就成了“可选技术”中带宽最大的方案了。

今天晚上聊一下MZM,这种调制器结构也经常用在硅光集成技术里。



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